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化学镍自动分析加药系统
美国WALCHEM化学镀镍系列控制器是应用光电比射原理在线分析电镀缸内化学沉铜、微蚀铜及化学镀镍溶液浓度的变化，能减少人工滴定检验的需要，应用在蚀铜还可以省去换缸的需要，从而节省成本，增加生产能力。
WNI系列型号价钱经济，内置微处理器以菜单形式控制，能以克每升(g/L)或液盎司每加仑(oz/gal)来显示，控制器可以有只测量镍或附带有pH控制功能从而省去另外添置pH控制器的需要。电镀缸外流通式感应器（190784探头）能节省宝贵电镀缸空间(不一定需要消泡程序)，光纤光电技术，能提供稳定的、重复性的、准确的浓度测量，不会受电镀缸衰老、颜色变化或沉淀物突增影响。
测定性能
镍的浓度范围：
0.01～30 g/L
精度
0.01 g/L(0.001 oz/gal)
pH范围
0～14pH
pH分辨率
0.001pH
温度范围
0～100℃（32～212°F）
温度分辨率
0.05°
输入电源
100～240VAC，50/60Hz8A
尺寸
160*50*220cm（可根据您工厂现场订制）
http://www.haidongep.com/SonList-1432978.html
https://www.chem17.com/st298891/product_26431552.html
化学镍自动分析加药系统